钛靶块

钛靶材 1 婷婷，从用材上分：板靶，管靶，圆靶.

2.从用途上分：工具镀，装饰镀

3，真空镀膜分为：溅射镀，离子镀膜，蒸发镀膜 精品久久久久久国产.

装饰镀：是为了改善工件外观装饰性能和色泽，同时使工件更耐磨耐腐蚀 日本强好片久久久久久AAA，延长其寿命， 这方面主要用于五金行业各个领域（如门窗五金，锁具，卫浴五金等行业）。

工具镀：主要目的是为了提高工件表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数 wwwwxxxxx日本，提高工件的使用寿命。

钛阳极 国产精品兄妹在线观看麻豆，主要用于化工，电镀行业，污水处理。

2、靶材的主要性能要求 纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。 不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0，5um减小到0 三更之回家在线观看，25um,0，18um甚至0，13um，以前99，995%的靶材纯度可以满足0，35umIC的工艺要求，而制备0，18um线条对靶材纯度则要求99，999%甚至99，9999%。 杂质含量 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 密度 为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。 晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶 粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均 钛饼。